Cấp điện mặt sau và xếp chồng 3D

Dây cấp điện và dây tín hiệu cùng nằm trong các tầng dây của một phía transistor, nên tranh chỗ với nhau

Cả hai loại dây dùng chung các tầng dây; transistor xếp sát hơn thì tầng dây chật.

Power rail (dây cấp điện) và signal wire (dây tín hiệu) cùng nằm trong một chồng tầng dây.

Xem lời đọc

Ta nhắc lại hai vấn đề của chip hiện nay. Dây cấp điện đưa điện áp cấp tới transistor. Dây tín hiệu truyền tín hiệu giữa các transistor. Trong chip hiện nay, cả hai loại dây chen vào cùng các tầng dây. Transistor xếp sát hơn thì mỗi diện tích cần nhiều dây hơn. Dây cấp điện chiếm chỗ của dây tín hiệu, nên các tầng dây chật. Ô mạch có thể phải rộng thêm, hoặc dây tín hiệu phải đi vòng xa hơn. Dây vòng xa làm tín hiệu đến chậm hơn.

Dây cấp điện chịu dòng lớn hơn dây tín hiệu nên thường được làm rộng hơn. Hình là mặt cắt chip, vẽ định tính, không theo tỉ lệ thật.

Điện áp cấp đi qua nhiều tầng dây và lỗ nối mảnh, nên điện áp giảm dần trước khi tới transistor

Mỗi đoạn dây và lỗ nối có điện trở; đường dài thì điện áp tới transistor nhỏ hơn.

Via (lỗ nối) là trụ kim loại nối dây tầng này với dây tầng kia.

Xem lời đọc

Điện áp cấp vào chip ở các tầng dây xa transistor nhất, rồi đi xuống từng tầng. Lỗ nối là trụ kim loại nối dây tầng này với dây tầng kia. Dòng điện đi qua nhiều lỗ nối và dây mảnh ở tầng dưới. Mỗi đoạn có điện trở, nên điện áp giảm dần dọc đường đi. Điện áp giảm bằng dòng điện nhân điện trở của đường đi. Transistor nhận điện áp nhỏ hơn điện áp cấp, nên chạy chậm hơn. Đường đi càng dài và qua càng nhiều lỗ nối thì mức giảm càng lớn.

Tầng trên dày rộng (điện trở nhỏ), tầng dưới mảnh (điện trở lớn); phần lớn mức giảm xảy ra ở đoạn mảnh gần transistor. Hình định tính, dải màu chỉ thể hiện nhạt dần, không có số vôn.

Cấp điện mặt sau đưa dây cấp điện sang mặt sau tấm silicon, sau khi tấm được lật và làm mỏng

Transistor và dây tín hiệu ở mặt trước; dây cấp điện ở mặt sau; tấm mỏng thì đường tới transistor ngắn.

Backside power delivery (cấp điện mặt sau) đặt dây cấp điện ở mặt sau của wafer (tấm silicon).

Xem lời đọc

Cấp điện mặt sau là đưa dây cấp điện sang mặt đối diện của tấm silicon. Transistor và dây tín hiệu vẫn nằm ở mặt trước, là mặt có mạch. Tấm được dán mặt trước lên một tấm đỡ rồi lật lại. Tấm đỡ giữ tấm silicon cứng vững khi mài. Làm mỏng tấm là mài và khắc bớt lớp silicon dày ở mặt sau. Lớp silicon mỏng thì đường từ mặt sau tới transistor ngắn. Sau đó dây cấp điện được làm trên mặt sau đã lộ ra. Hai loại dây nằm ở hai phía, nên bớt tranh chỗ.

Thứ tự thực tế: chế tạo transistor và tầng dây tín hiệu ở mặt trước, dán mặt trước lên tấm đỡ, lật, mài và khắc đế silicon, rồi làm kim loại mặt sau. Ở thí nghiệm của imec, silicon còn lại mỏng cỡ vài trăm nm; độ dày phải đều. Hình không theo tỉ lệ độ dày.

Ở thí nghiệm của imec, trụ nối xuyên silicon nhỏ nối dây mặt sau với thanh điện chôn sát transistor, nên đường cấp điện ngắn lại

Trụ kim loại xuyên lớp silicon mỏng, chạm thanh điện chôn; điện áp cấp tới transistor qua đoạn ngắn (ví dụ imec).

Nano-TSV (trụ nối xuyên silicon nhỏ) là trụ kim loại xuyên qua lớp silicon đã làm mỏng; buried power rail (thanh điện chôn) là dây cấp điện đặt sâu sát transistor.

Xem lời đọc

Ở thí nghiệm của ai méc, dây cấp điện mặt sau cần một đường tới transistor. Đường đó là trụ nối xuyên silicon nhỏ, một trụ kim loại xuyên qua lớp silicon mỏng. Nó nhỏ hơn nhiều so với trụ xuyên silicon nối hai chip xếp chồng. Thanh điện chôn là dây cấp điện đặt sâu sát transistor, song song với các hàng ô mạch. Trụ nhỏ chạm vào thanh điện chôn từ mặt sau. Từ thanh điện chôn, điện áp cấp đi tới transistor qua đoạn ngắn. Đường cấp điện ít phải đi qua các tầng dây mảnh ở mặt trước. Đoạn đường ngắn hơn nên mức giảm điện áp nhỏ hơn.

Trụ nối xuyên silicon nhỏ khác trụ xuyên silicon ở chip xếp chồng: nhỏ hơn nhiều, nằm trong một chip, nối dây mặt sau với transistor chứ không nối hai chip. Imec thử trên kết cấu thử FinFET. Cách nối vào transistor khác nhau giữa các nhóm, nên hình chỉ vẽ ví dụ imec.

imec, Intel và TSMC cùng làm cấp điện mặt sau, mỗi nhóm ở một mốc khác nhau

Mỗi nhóm có mốc riêng (thí nghiệm, công bố, sản xuất hàng loạt); mức cải thiện do hãng công bố nên cần kiểm thêm.

Intel gọi là PowerVia; TSMC gọi là Super Power Rail trên thế hệ A16.

Xem lời đọc

Viện ai méc trình bày thí nghiệm năm hai nghìn không trăm hai mươi hai. Chỉ ai méc dùng thanh điện chôn. Intel công bố Pao Via và công bố dùng nó ở công nghệ mười tám ây. TSMC công bố công nghệ ây mười sáu năm hai nghìn không trăm hai mươi tư. TSMC nêu mốc sản xuất hàng loạt năm hai nghìn không trăm hai mươi bảy. Trước đó hãng nêu nửa sau năm hai nghìn không trăm hai mươi sáu. Intel nêu tần số lớn hơn, TSMC nêu tốc độ lớn hơn hoặc điện năng ít hơn. Mức cải thiện là số do hãng công bố, nên cần kiểm thêm.

imec, viện nghiên cứu, trình bày thí nghiệm trụ nối xuyên silicon nhỏ với thanh điện chôn năm 2022; đây là nghiên cứu, không phải sản xuất.

Intel: chip thử Blue Sky Creek (năm 2023); Intel công bố PowerVia dùng ở 18A; Panther Lake bán từ tháng 1 năm 2026. PowerVia nối trụ nhỏ thẳng từ mặt sau tới tiếp xúc nguồn hoặc máng của transistor.

TSMC công bố A16 tháng 4 năm 2024; Super Power Rail nối thẳng tới nguồn hoặc máng bằng tiếp xúc mặt sau. TSMC nêu mốc sản xuất hàng loạt năm 2027, trước đó nêu nửa sau năm 2026. Chỉ imec dùng thanh điện chôn. Hãng nêu: Intel tần số cao hơn hơn 5 % ở chip thử; TSMC tốc độ cao hơn 8 đến 10 % hoặc điện năng ít hơn 15 đến 20 % so với N2P. Điều kiện đo khác nhau nên không so chéo.

Bóng hàn nối hai chip xếp chồng chỉ cho một số đường dữ liệu trên một diện tích, nên băng thông bị giới hạn

Băng thông tỉ lệ với số đường dữ liệu; số đường bị giới hạn bởi cỡ và khoảng cách bóng hàn.

Bump (bóng hàn) nối hai chip; bandwidth (băng thông) là lượng dữ liệu truyền qua mỗi giây.

Xem lời đọc

Một vấn đề khác nằm ở chỗ nối giữa hai chip xếp chồng. Chỗ nối là các bóng hàn, mỗi bóng hàn mang một đường dữ liệu. Băng thông là lượng dữ liệu truyền qua mỗi giây. Nếu mỗi đường truyền cùng tốc độ thì băng thông tỉ lệ với số đường dữ liệu. Bóng hàn kề nhau quá sát có thể chập vào nhau, nên cần khoảng cách. Vì vậy số đường trên một diện tích mặt chip bị giới hạn. Băng thông nhỏ thì chip này phải chờ dữ liệu từ chip kia.

Bóng hàn nhỏ ở chồng chip gọi microbump; loại tiên tiến có bước (khoảng cách tâm đến tâm) cỡ 40 µm, nhìn chung muốn thu xuống cỡ 10 µm. Băng thông còn phụ thuộc tốc độ mỗi đường.

Liên kết lai đồng–đồng thay bóng hàn nên chip xếp chồng có nhiều đường dữ liệu hơn và băng thông lớn hơn

Miếng đồng gặp miếng đồng, không bóng hàn; miếng đồng nhỏ và sát hơn bóng hàn.

Hybrid bonding (liên kết lai đồng–đồng) gắn mặt đồng vào đồng và mặt cách điện vào cách điện, không cần bóng hàn.

Xem lời đọc

Mặt mỗi chip có các miếng đồng nằm trong lớp cách điện, được mài phẳng. Hai mặt úp vào nhau sao cho đồng gặp đồng, cách điện gặp cách điện. Sau khi nung, đồng hai chip dính liền nhau. Cách này gọi là liên kết lai đồng đồng, thay cho bóng hàn. Miếng đồng nhỏ và sát hơn bóng hàn, nên cùng diện tích có nhiều đường dữ liệu hơn. Nhờ vậy băng thông giữa các chip xếp chồng lớn hơn.

Liên kết lai đã dùng cho cảm biến ảnh và một số bộ xử lý; HBM mới nhất vẫn dùng bóng hàn nhỏ. Bước nối của liên kết lai nay cỡ vài µm, TSMC công bố cỡ 6 µm. Độ phẳng của mặt rất khó đạt và hạt bụi làm hỏng mối nối, nên khó hơn dùng bóng hàn.

Tên thế hệ là tên hãng đặt cho một công nghệ, nên khó cho biết kích thước thật của transistor

Cải thiện đến từ cấu trúc, không chỉ thu nhỏ transistor; tên thế hệ vì vậy chưa đủ để so sánh.

Process node (tên thế hệ) là tên hãng đặt cho một công nghệ chế tạo, ví dụ 18A hoặc A16.

Xem lời đọc

Tên thế hệ là tên mà hãng đặt cho một công nghệ chế tạo. Ví dụ mười tám ây và ây mười sáu là tên thế hệ. Mỗi hãng tự đặt tên cho thế hệ của mình. Cấp điện mặt sau và liên kết lai là những thay đổi về cấu trúc. Cải thiện đến từ cấu trúc, không chỉ từ việc thu nhỏ transistor. Vì vậy tên thế hệ khó cho biết kích thước thật của transistor. Câu hỏi còn lại là tên thế hệ liên hệ với kích thước thật ra sao.

Tên thế hệ là nhãn thương mại, mỗi hãng đặt riêng; chưa đủ để suy ra kích thước thật của transistor.

Số liệu